高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極,能夠*大限度地減輕對樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的*大樣品直徑:60 mm
高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的*大樣品高度:20 mm
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